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乙矽烷（Disilane；Si2H6）
主要用途：乾蝕刻劑、半導體及液晶製造設備用清潔劑
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乙矽烷（Disilane；Si2H6）
主要用途：乾蝕刻劑、半導體及液晶製造設備用清潔劑
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三氟化氮 (Nitrogen trifluoride；NF3)
主要用途：乾蝕刻劑、半導體及液晶製造設備用清潔劑
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三氟化氮 (Nitrogen trifluoride；NF3)
主要用途：乾蝕刻劑、半導體及液晶製造設備用清潔劑
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四氟化矽（Silicon fluoride；SiF4）
主要用途：光纖、層間絶縁膜、乾蝕刻劑、高性能光纖之製造原料、半導體製造用氣體
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四氟化矽（Silicon fluoride；SiF4）
主要用途：光纖、層間絶縁膜、乾蝕刻劑、高性能光纖之製造原料、半導體製造用氣體
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矽甲烷(Silane；SiH4)
主要用途：乾蝕刻劑、半導體及液晶製造設備用清潔劑
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主要用途：乾蝕刻劑、半導體及液晶製造設備用清潔劑
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