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矽甲烷(Silane;SiH4)


主要用途:乾蝕刻劑、半導體及液晶製造設備用清潔劑




用途分類:

半導體製程材料 電子材料

特性分類:

揮發性

 

 

 

 

基本情報

三井化學在高純度特殊氣體領域中領先業界,我們擁有豐富的聚合、分析技術,活用此經驗,提供客戶高純度、高品質之特殊氣體。

四氟化矽做為高性能光纖之製造原料,也常被使用在半導體製程上。

 

 

特性詳細

  • 揮發性
  • 因為揮發性較高之故,所以務必要小心使用。

 

 

用途詳細

  • 提供持續進化之電子元件製程用高純度特殊氣體
  • 光纖、層間絶縁膜、乾蝕刻劑、高性能光纖之製造原料、半導體製造用氣體

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矽甲烷(Silane;SiH4)

主要用途:乾蝕刻劑、半導體及液晶製造設備用清潔劑