乙矽烷（Disilane；Si2H6）
主要用途：乾蝕刻劑、半導體及液晶製造設備用清潔劑
用途分類：
半導體製程材料 電子材料
基本情報
三井化學在高純度特殊氣體領域中領先業界，我們擁有豐富的聚合、分析技術，活用此經驗，提供客戶高純度、高品質之特殊氣體。
Disilane使用在更高速・更低溫之沉積薄膜製程中，是化學氣相沉積法（CVD）之最適氣體。對各種電子製程之製造上非常有助益。
特性詳細
- 自燃性氣體
- 此氣體遇到空氣後會自燃，所以務必要小心使用。
- 易分解
- 分解性佳，所以遇到其他物質時，有較強的反應性。
用途詳細
- 提供持續進化之電子元件製程用高純度特殊氣體
- 使用在低溫・高速成膜製程中，利用化學氣相沉積法（CVD）沉積薄膜於晶片表面之氣體