乙矽烷(Disilane;Si2H6)  |產品介紹|產品總覽

乙矽烷(Disilane;Si2H6)


主要用途:乾蝕刻劑、半導體及液晶製造設備用清潔劑




用途分類:

半導體製程材料 電子材料

 

 

 

基本情報

三井化學在高純度特殊氣體領域中領先業界,我們擁有豐富的聚合、分析技術,活用此經驗,提供客戶高純度、高品質之特殊氣體。

Disilane使用在更高速・更低溫之沉積薄膜製程中,是化學氣相沉積法(CVD)之最適氣體。對各種電子製程之製造上非常有助益。

 

 

特性詳細

  • 自燃性氣體
  • 此氣體遇到空氣後會自燃,所以務必要小心使用。
  • 易分解
  • 分解性佳,所以遇到其他物質時,有較強的反應性。

 

 

用途詳細

  • 提供持續進化之電子元件製程用高純度特殊氣體
  • 使用在低溫・高速成膜製程中,利用化學氣相沉積法(CVD)沉積薄膜於晶片表面之氣體

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乙矽烷(Disilane;Si2H6)

主要用途:乾蝕刻劑、半導體及液晶製造設備用清潔劑