三氟化氮 (Nitrogen trifluoride;NF3)  |產品介紹|產品總覽

三氟化氮 (Nitrogen trifluoride;NF3)


主要用途:乾蝕刻劑、半導體及液晶製造設備用清潔劑




用途分類:

半導體製程材料

特性分類:

潔淨性 良好潔淨性

 

 

 

 

基本情報

在半導體、液晶、太陽能等製程製造時,高純度之特殊氣體是不可欠缺之原料。

三井化學在此領域中領先業界,我們擁有豐富的聚合、分析技術,活用此經驗,提供客戶高純度、高品質之特殊氣體。

 

 

特性詳細

  • 潔淨性
  • 高性能之乾蝕刻氣體,對半導體及液晶之製造設備內部之潔淨非常有助益。
  • 容器
  • 擁有多種容器可對應客戶需求。

 

 

用途詳細

  • 提供持續進化之電子元件製程用高純度特殊氣體
  • 用於半導體、液晶面板薄膜製程中之清潔劑、蝕刻劑

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三氟化氮 (Nitrogen trifluoride;NF3)

主要用途:乾蝕刻劑、半導體及液晶製造設備用清潔劑