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MITSUI PELLICLE™ 光罩護膜


主要用途:微影製程中光罩表面的防塵保護膜




用途分類:

半導體製程材料

特性分類:

光學特性 潔淨性 耐光性

 

 

基本情報

概要

Mitsui Pellicle是一種用於光罩的防塵護膜,其膜厚度設計為透過選擇對微影製程中的各曝光波長均有耐光的膜材料來獲得高穿透率。

它保持光罩的清潔,有助於提升半導體生產效率.另外Mitsui Pellicle本著經驗和技術的服務,並持續支持下一代的顯影技術.

 

特性

光學特性

穿透率99%以上.原料的預先處理及旋轉塗布技術的結合搭配下,可確保均勻的穿透率.

 

潔淨性

由精心嚴選的材料,不會因為光劣化而產生異物,也不會因為昇華成分而產生異物.在Class 1等級的無塵室中使用潔淨機器人系統,我們可以穩定的生產高品質的產品.

 

膜壽命

透過開發可適應曝光的新素材,而實現了耐光性.

 

 

 

材料特點

特性

*PELLICLE膜上的異物不會轉寫到晶圓上

 

製品群:

KrF 用光罩護膜
ArF 用光罩護膜

 

可對應主要曝光機製造商:

Nikon Canon ASML

 

完整的技術支持系統

處理方法介紹
品質問題的原因分析和對策
各種分析

 

 

用途詳細

膜材的演進

三井化學PELLICLE的歷程及計畫

  • 1982年 基礎研究開始
  • 1986年 G線用PELLICLE的販賣開始
  • 1988年 無發塵PELLICLE的販賣開始
  • 1989年 IG共用PELLICLE的販賣開始
  • 1990年 6吋IG共用PELLICLE的販賣開始
  • 1993年 KrF / DeepUVi 共用PELLICLE的販賣開始
  • 2000年 ArF PELLICLE的販賣開始

 

  • 1g-line(436nm) ------------硝酸纖維素
  • i-line(365nm) -------------改性纖維素
  • KrF Excimer (248nm)----- 氟素聚合物
  • ArF Excimer (193nm)----- 改性氟素聚合物

 

無發塵構造

透過在鋁合金框架的表面塗上特殊的表面接著劑,可以防止來自框架的灰塵,並且可以保留異物附著在內壁上.

在不使用會造成發塵的雙面膠帶,而將特殊的接著劑直接塗布於框架上.這種塗布型的光罩接著劑,可以讓光罩容易的卸除及讓光罩易於清洗.

 

外觀

構造圖

 

 

 


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MITSUI PELLICLE™ 光罩護膜

主要用途:微影製程中光罩表面的防塵保護膜